2021年ASML将推下一代EUV光刻机 面向2nm、1nm工艺

作为世界上唯一一家能够生产EUV光刻机的公司,荷兰的ASML去年销售了26台EUV光刻机,主要是针对TSMC、三星的7纳米工艺和今年开始批量生产的5纳米工艺。预计今年将运送35台EUV平版印刷机。

目前,ASML发运的光刻机主要是NXE:3400B和改进型NXE:3400C,两者基本结构相同。但是,NXE:3400C采用模块化设计,维护更加方便,平均维护时间将从48小时缩短到8-10小时,支持7纳米和5纳米。

此外,NXE:3400C的生产能力也从每小时125瓦增加到每小时175瓦。

无论是NXE:3400B还是NXE:3400C,目前的EUV光刻机仍然是第一代,其主要特点是物镜系统的数值孔径为0.33。

根据光刻机的分辨率公式,NA值越高,光刻机的精度越高。ASML还在开发新一代EUV平版印刷机EXE:5000系列,NA 0.55,主要合作伙伴是卡尔蔡司和IMEC比利时微电子中心。

EXE:5000系列下一代光刻机主要面向后3纳米时代。目前,三星和TSMC发布的工艺路线图长达3纳米。2纳米甚至1纳米的工艺仍在考虑中。大规模生产需要新的制造设备,新一代EUV光刻机是重中之重。

据ASML称,Exe 系列光刻机最早将于2021年上市,但原型将是第一个,需要几年时间才能投入生产。乐观的看法是,它将是2023年或2024年之前的Exe 系列光刻机的NA 0.55将可用。